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低温恒温反应浴的性能特点介绍
  • 发布日期:2019-06-20      浏览次数:116
    •    低温恒温反应浴常应用于对半导体制造装置发热部的冷却:单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。并且对激光装置发热部分的冷却:激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等起到很大作用。
        低温恒温槽是自带制冷和加热的高精度恒温源,兼具小型冷水机的功能。广泛应用于石油、化工、冶金、医药、生化、物性,测试及化学分析等研究部门、高等院校、工厂实验室及计量质检部门。
        低温恒温反应浴说明:
        1.根据大空间制冷原理,采用全新改进蒸发器,降温更迅速、温度更均匀;
        2.全新设计的专业电路,PID输出,控温更;
        3.功能键均采用触摸软键;
        4.温度、时间数显;
        5.预约开机,延时关机;
        6.具备超温、差温报警功能
        7.采用风冷式全封闭压缩机组,进口压缩机,制冷量大;
        8.可在工作槽内进行低温实验或将槽内冷液外引,冷却机外实验器;
        低温恒温反应浴主要特点
        1.风冷式全封闭制冷压缩机,降温速度快。
        2.微机智能控制,温度温度。
        3.数显分辨率0.1℃或0.01℃,具有温度测量值偏差修正功能。
        4.温度超温保护,自动切断电源并报警。
        5.制冷系统过热、过流自动保护。
        随着低温恒温反应浴的应用越来越广泛,正确地了解干燥及干燥设备的工作机理有助于成功地完成干燥过程,但是仍然需要我们不断地投人人力和物力去进一步进行干燥技术的研究和开发,以使其在生产高质量产品的同时,有效地来提高工作效率。
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